Seto 1.60 φωτοχρωμικός φακός shmc

1) Τι είναι η επίστρωση περιστροφής;

Η επίστρωση περιστροφής είναι μια διαδικασία που χρησιμοποιείται για την κατάθεση ομοιόμορφων λεπτών μεμβρανών σε επίπεδη υποστρώματα. Συνήθως εφαρμόζεται μια μικρή ποσότητα υλικού επικάλυψης στο κέντρο του υποστρώματος, το οποίο είτε περιστρέφεται με χαμηλή ταχύτητα είτε δεν περιστρέφεται καθόλου. Το υπόστρωμα στη συνέχεια περιστρέφεται με ταχύτητα έως και 10.000 σ.α.λ. για να διαδώσει το υλικό επικάλυψης με φυγοκεντρική δύναμη. Ένα μηχάνημα που χρησιμοποιείται για επικάλυψη περιστροφής ονομάζεται SPIN Coater, ή απλά spinner.
Η περιστροφή συνεχίζεται ενώ το υγρό γυρίζει από τις άκρες του υποστρώματος, μέχρι να επιτευχθεί το επιθυμητό πάχος της μεμβράνης. Ο εφαρμοζόμενος διαλύτης είναι συνήθως πτητικός και ταυτόχρονα εξατμίζεται. Όσο υψηλότερη είναι η γωνιακή ταχύτητα της περιστροφής, τόσο λεπτότερο είναι η μεμβράνη. Το πάχος της μεμβράνης εξαρτάται επίσης από το ιξώδες και τη συγκέντρωση του διαλύματος και τον διαλύτη. [2] Η πρωτοποριακή θεωρητική ανάλυση της επικάλυψης περιστροφής πραγματοποιήθηκε από τους Emslie et al., Και έχει επεκταθεί από πολλούς επόμενους συγγραφείς (συμπεριλαμβανομένων των Wilson et al., [4] που μελέτησαν το ποσοστό εξάπλωσης στην επικάλυψη περιστροφής και Danglad-Flores et al. [5] που βρήκαν μια καθολική περιγραφή για την πρόβλεψη του πάχους μεμβράνης που κατατίθεται).
Η επίστρωση περιστροφής χρησιμοποιείται ευρέως στη μικροδιαφυγή των λειτουργικών στρωμάτων οξειδίου σε γυαλί ή μεμονωμένα υποστρώματα κρυστάλλων χρησιμοποιώντας πρόδρομα sol-gel, όπου μπορεί να χρησιμοποιηθεί για τη δημιουργία ομοιόμορφων λεπτών μεμβρανών με πάχος νανοκλίμακας [6]. Χρησιμοποιείται εντατικά στη φωτολιθογραφία, για την κατάθεση στρώσεων φωτοαντιγραφικού πάχους περίπου 1 μικρομέτρου. Ο φωτοανθεκτικός συνήθως περιστρέφεται σε 20 έως 80 περιστροφές ανά δευτερόλεπτο για 30 έως 60 δευτερόλεπτα. Χρησιμοποιείται επίσης ευρέως για την κατασκευή επίπεδων φωτονικών δομών από πολυμερή.
Ένα πλεονέκτημα για την περιστροφή των λεπτών φιλμ είναι η ομοιομορφία του πάχους του φιλμ. Λόγω της αυτοεξυπηρέτησης, τα πάχη δεν ποικίλλουν περισσότερο από 1%. Ωστόσο, οι παχύτερες μεμβράνες από πολυμερή και φωτοανττυσσών μπορούν να οδηγήσουν σε σχετικά μεγάλα σφαιρίδια των οποίων η επίπεδη έχει φυσικά όρια.